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第40章技术助力，初见成效(第1/2页)
冰芯科技总部大厦顶层的总裁办公室，空气仿佛凝固成了冰。
楚冰坐在宽大的黑檀木办公桌后，指尖无意识地摩挲着一份皱巴巴的研发报告。报告上密密麻麻的红色批注，像一道道血痕，刺得她眼睛生疼。
三个月了。
整整三个月，“冰芯二号”5nm芯片的研发始终卡在光刻胶均匀性这道死关上。无论团队怎么调整参数，光刻出来的晶体管边缘总是存在纳米级的粗糙，导致漏电率超标300%，良率不足1%。
办公室的灯光惨白，照在楚冰脸上，更显得她面色憔悴。眼底的乌青像晕开的墨，昭示着她已经连续七十二小时没有合眼。她身上的黑色连衣裙也有些褶皱，显然是穿了很久没有换。
“楚总，您还是休息一下吧。”首席技术官陈建国站在办公桌前，声音沙哑得像砂纸摩擦。他的头发花白，眼睛里布满了血丝，显然也和楚冰一样，很久没有休息了。
“您已经三天没睡觉了，再这样下去身体会垮的。”陈建国心疼地说道。楚冰不仅是他的老板，更是他看着长大的孩子。他不忍心看到她这么拼命。
楚冰摇了摇头，声音带着一丝不易察觉的颤抖：“休息？我怎么敢休息？银行的催款单已经堆了一桌子，投资方昨天又发了最后通牒，如果这个月还没有突破性进展，他们不仅会撤资，还要我们赔偿违约金。”
她抬起头，看向窗外灰蒙蒙的天空，眼中满是疲惫和绝望：“如果‘冰芯二号’失败了，冰芯科技就完了。我们这么多年的努力，就都白费了。龙国的芯片产业，又会被海外资本卡脖子。”
陈建国张了张嘴，想说什么，最终却只是叹了口气。他比任何人都清楚，冰芯科技现在的处境有多艰难。
就在这时，办公室的门被轻轻敲响了。
“进来。”楚冰的声音恢复了一贯的清冷。
助理小张推开门，小心翼翼地说道：“楚总，外面有一位先生想要见您。他说他叫苏宇，是星辰未来科技的总裁。”
“苏宇？”楚冰愣了一下。
就是那个在商业峰会上发表演讲，说要带领龙国科技崛起的年轻男人？那个一个月内从月薪八千变成身价千亿的商业传奇？
他来找我干什么？
“他有没有说是什么事？”楚冰问道。
“他说……他能帮我们解决‘冰芯二号’的技术瓶颈。”小张的声音带着一丝难以置信。
“什么？”楚冰和陈建国同时站了起来。
陈建国立刻嗤之以鼻：“楚总，这肯定是骗子！芯片研发是多么精密的事情，他一个搞人工智能和环保的，怎么可能懂5nm芯片技术？我看他就是想趁火打劫，蹭我们的热度！”
楚冰也皱起了眉头。陈建国说得有道理。芯片行业壁垒极高，隔行如隔山。苏宇就算再天才，也不可能在这么短的时间内，精通芯片研发的核心技术。
但……
楚冰看着桌上那份绝望的研发报告，心中又生出一丝微弱的希望。
反正已经没有别的办法了。
死马当活马医吧。
“让他进来。”楚冰缓缓说道。
“楚总！”陈建国急了。
“陈叔，我们已经没有退路了。”楚冰的声音很轻，却带着一种破釜沉舟的决绝。
很快，苏宇走了进来。
他穿着一身深灰色的休闲西装，身姿挺拔，精神奕奕。和楚冰的憔悴形成了鲜明的对比。
当他看到楚冰的样子时，心中微微一疼。那个在商业峰会上冷艳高贵、气场全开的“芯片女神”，此刻竟然如此疲惫不堪，像一朵即将凋零的雪莲。
“楚总，深夜打扰，实在抱歉。”苏宇的声音温和，带着恰到好处的歉意。
“苏总客气了。”楚冰勉强挤出一丝笑容，“不知道苏总深夜来访，有何贵干？”
“我听说贵公司的‘冰芯二号’遇到了技术瓶颈。”苏宇开门见山，目光真诚地看着楚冰，“正好我对量子材料和光刻技术略有研究，也许能帮上一点忙。”
陈建国在一旁冷笑道：“苏总，不是我们不信你。只是芯片研发不是儿戏，我们团队三百多个博士，研究了三年都没解决的问题，你一个外人怎么可能解决？”
苏宇没有理会陈建国的嘲讽，只是看着楚冰，认真地说道：“楚总，我知道你现在肯定不相信我。这样吧，给我十分钟时间，我给你讲一下我的解决方案。如果听完之后，你觉得不可行，我立刻就走，绝不再打扰。”
楚冰看着苏宇的眼睛。
他的眼神清澈、坚定，没有丝毫的虚伪和欺骗。
不知为何，楚冰的心中竟然生出了一丝莫名的信任。
“好，我给你十分钟。”楚冰点了点头。
苏宇笑了笑，从随身的公文包里拿出一台笔记本电脑，连接到会议室的大屏幕上。
“首先，我们来分析一下问题的根源。”苏宇指着屏幕上的芯片结构图，语速不快，却条理清晰，“你们现在使用的是传统的化学放大型光刻胶，在5nm工艺下，光刻胶的厚度只有30nm。在曝光过程中，光子的散射效应会导致光刻胶边缘模糊，从而产生漏电现象。”
陈建国不屑地说道：“这我们当然知道！问题是怎么解决！寰球顶尖光刻机厂商艾斯摩尔都没有完美的解决方案！”
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“艾斯摩尔没有，不代表我们没有。”苏宇淡淡地说道，“我的解决方案是，放弃传统的化学放大型光刻胶，改用我研发的‘量子点光刻胶’。”
他一边说，一边在屏幕上画出了一个复杂的分子结构图。
“这种量子点光刻胶，以单分散的硒化镉量子点为核心，表面修饰有光敏基团。在曝光时，量子点会产生局域表面等离子体共振效应，将光子能量集中在纳米级范围内，完全消除了散射效应。同时，量子点的尺寸均匀性可以控制在0.1nm以内，光刻精度可以达到1nm以下。”
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