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第39章 芯片制程工艺改进(2 / 2)

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而且源极和漏极之间的沟道变得特别短,短沟道效应就明显起来了,阈值电压跟着下降,晶体管的开关特性也就受到影响了。

芯片的性能和功能也跟着受影响。

林浩的思考可以进入特定状态,在这个时候,他把晶体管的整体结构映射到脑海里,不停地旋转,整个碳晶圆的蚀刻流程也在其中参与推演。

脑海深处的灵感,冲刷着大脑皮层,这个感觉棒极了,他静静地坐在办公椅上,手指原本在桌上轻轻敲击的,这时也已经停止,甚至闭上了眼睛。

在这一刹那。

全身都处于静止状态,只有神经末梢在急速触动,内心深处的呼唤让他不能停止......

这种状态在持续。

由于长时间保持姿态,这个时候如果有人过来,会看到他的额头出现极为密集的细微汗珠,涓涓汇集,顺着脸庞向下流淌。

林浩现在脑海里全是PN结的影像。

如果......

如果......

如果......

目前的10纳米工艺制程,是把万亿个晶体管平铺蚀刻到碳晶圆上的,而单个晶体管是PN节,这是个长悠悠的造型,如果,如果把这个PN节给直立起来,这样在栅极之间就能减少好多空间。

如果碳晶圆的纯度是12个9,也许这个隔离栅极的宽度,可以变得更小。

这样的设计工艺,也许可以做到3纳米,甚至更小。

整整两天三夜。

林浩的休息时间极少,他都没有离开过办公室,这期间洛书芸进来过,几次张嘴想说什么,但最终什么也没说,而是默默地给林浩带来饭菜......

这种工艺改进也许是行得通的。

林浩直接前往地下。

伊娃来帮助他实现想法。

改造工艺流程,重新设计通用版本的芯片设计,这种设计伊娃做起来没有任何压力,初始版本的设计,是陈教授团队做的,伊娃只是极尽的推演和优化。

又过去两天时间。

终于造好了。

林浩摸着手里的芯片,掂量几下,感觉有些沉甸甸的。

这是3nm制程工艺的碳基芯片,128核心,主频6.1GHz,三级缓存642M,支持伊娃设计的指令集和PCIE5.0通道,支持DDR5内存,这些特性使得它在各方面都极为出色。

芯片指令集是伊娃的标准:

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